#rooms_begin
メインクリーンルーム	mainclean_room
イエロールーム	yellow_room
金属蒸着室	metal_deposition_room
TEM室	tem_room
レーザ加工室	laser_room
分析室	analysis_room
光学測定室	optic_measurament_room
組立評価室	assembly_test_room
コンピュータ室	computer_room
電気実験室	electric_experiment_room
３階実験室	experiment_room
ナノマシニング棟	nanomachining_room
実験棟A	jikkentou_A
実験棟D	jikkentou_D
#rooms_end

#begin=0
pilo_upper	パイロ酸化炉(上段)
pilo_middle	パイロ酸化炉(中段)
pilo_lower	パイロ酸化炉(下段)
h2_aneal	水素アニール炉・POCL炉
wafer_aligner	ウェハーアライナー
al_etcher	Alエッチャー
sts1	STS ICP RIE #1
sts2	STS ICP RIE #2
metal_rie	Metal RIE (ANELVA)
metal_rie2	Metal RIE #2 (ANELVA)
fab	FAB
ion_injector	イオン注入装置
pteos_cvd	P-TEOS CVD
evg_bonder	EVGボンダ
ulvac_ecr	ECR RIE(ULVAC)
dainichi_ecr	ECR RIE(大日真空)
youtec_cvd	YOUTECプラズマCVD
anelva_cvd	ANELVA プラズマSiN-CVD
tel_lpcvd	TEL LPCVD
ulvac_cvd	ULVAC WCVD
anelva_etcher	DFR CONTACT ETCHER(ANELVA)
cl2	Cl2ボンベ
#end

#begin=1
hl800	電子ビーム 露光装置 (Hitachi HL800)
iline_stepper	I線ステッパー
evg_aligner	EVGアライナ
evg_washer	EVG接合用基板洗浄 (EVG301)
evg_plasma	EVGプラズマ表面活性化装置
evg_spray	EVGスプレーコーター
#end

#begin=2
anelva_sputter	ANELVAスパッタ
jeol_sputter	JEOLスパッタ
eiko_sputter	EIKOスパッタ
dc_sputter	DC対向ターゲットスパッタ
rftaiko_sputter	RF対向ターデットスパッタ(大阪真空)
eb_evaporator	EB蒸着
rf_sputter	RFスパッタ(Alスパッタ)
herikon_sputter	ヘリコンスパッタ
rfdc_sputter	RF/DC逆付スパッタ
shibaura_sputter	SHIBAURAスパッタ
ecr_sputter	ECRスパッタ
test	testだよ
test2	testダバ
test3	200904024
#end

#begin=3
jeol_eb	JEOL EB
#end

#begin=4
krf_leaser	KrFエキシマレーザー
newyag_laser	YAGレーザー(新)
oldyag_laser	YAGレーザー(旧)
pulse_yag	パルスYAG(Solar)
film_value	薄膜評価装置
parylene_evaporator	パリレン蒸着
#end

#begin=5
fe_sem	FE-SEM
hitachi_sem	熱電子SEM
fib	FIB
sims	SIMS
laser_microscope	レーザー顕微鏡
fluoro_film	蛍光X線膜厚計
e_sem	E-SEM
#end

#begin=6
uv_ellipsometer	紫外分光エリプソメーター
ellipsometer	エリプソメーター
xef2_etcher	XeF2エッチャー
para_oscillator	光パラメトリック発振器
multi_spectroscope	マルチチャンネル分光器
tiring_laser	チタンサファイア リングレーザ
infrared_camera	赤外線カメラ
femtosec_laser	フェムト秒レーザ
plasma_cvd	プラズマ CVD
light_molding	光造型
molecular_etching	分子線エッチング装置
time_spectroscopy	時間分解分光装置
spectro_etching	分光用エッチング装置
lcd_injector	液晶注入装置
#end

#begin=7
plating_set	メッキセット
spectro_analyzer	光スペクトラムアナライザ
hipos	ハイポス(HIPOS)
excima_lamp	エキシマランプ&低真空ベーク炉
laser_doppler1	レーザードップラー振動計
impedance_analyzer	インピーダンスアナライザ
uv_exposure	紫外線露光装置
hifreq_probe	高周波プローブ
vacaccel_test	真空加速度試験器
refraction	屈折率測定装置
#end

#begin=8
essw1	ESSW1
essw2	ESSW2
essw3	ESSW3
cutting_plotter	カッティングプロッター
#end

#begin=9
prober	プローバ
subst_machining	基板加工装置
#end

#begin=10
polishing_machine	研磨装置
#end

#begin=11
pg	パターンジェネレーター
eb_exposure	エリオニクスEB
jeol_eb5000	JEOL EB 5000LSS
shrinking_camera	縮小カメラ・現像
esca_analyzer	ESCA分析装置
hivac_stm	超高真空STM
shimazu_spm	Shimazu SPM
olympus_spm	Olympus SPM
phto_counter	フォトンカウンティングカメラ・蛍光顕微鏡
hotfilum_cvd	ホットフィラメントCVD
throw_exposure	投影露光装置
pe_cvd	PE-CVD
fluoro_microscope	蛍光顕微鏡
laser_doppler2	レーザードップラー振動計2
maskless_exposuer	マスクレス露光装置
#end

#begin=12
dicer	ダイサー
#end

#begin=13
sand_blast	 サンドブラスト
#end