9/25 19:22	<font size=5 cololr=#ff0000>レジスト、ポリイミドテープ、有機物全般の導入禁止！！</font>	装置担当者
9/25 19:23	<font size=5>リフトオフプロセス禁止！！</font>	装置担当者
9/28 17:53	Don't load all kinds of organic matter (photo resist, EB resist, polyimide tape etc.) in this machine.	装置担当者
1/9 20:11	成膜レートなどは<a href="http://www.mems.mech.tohoku.ac.jp/wiki/index.php?EIKO%20Sputter" target="_blank">MEMS-CR Wiki</a>を参照	装置担当者