6/28 21:06    最近多発していた冷却水エラーですが、配管のバルブの目詰まりだったもようです。目詰まりは解消されたようなので、通常通り使用可能です。 by Katsube
8/3 16:00    You can NOT use the FAB machine from 22:00 on 3rd Aug to 7th Aug. by Supervisor of FAB
6/8 16:02    Etching rate of Si is about 22.6 nm/min with SF6 (Voltage: 2.5kV Current:20mA) by Takahashi (Hane & Sasaki Lab.)
11/9 20:15	Do NOT use Cl2 gas since 15 Nov to 17 Nov.	Tantousya (Katsube)
10/30 16:36	The fluctuation of SF6 gas flow during etching may be avoided by higher vacuum (3.0*10-6 Torr ).	Katsube (Hane & Sasaki Lab.)
10/7 16:04	現在V17を開けることが出来ないため使用不可です．	Miura(Hane&Kanamori Lab.)
you don't have to close the valve too firmly.	Katsube (Hane & Kanamori Lab.)
10/15 12:49	When you close the valve (Ｖ１７：It isolates main chamber & load lock chamber.),