ウェハーアライナー
ECR_RIE（ULVAC）
ECR_RIE（大日真空）
EVG接合用基板洗浄_（EVG301）
EVGプラズマ表面活性化装置
RF対向ターデットスパッタ（大阪真空）
ヘリコンスパッタ
RF／DC逆付スパッタ
YAGレーザー（新）
パルスYAG（Solar）
薄膜評価装置
SIMS
レーザー顕微鏡
蛍光X線膜厚計
E-SEM
屈折率測定装置
紫外分光エリプソメーター
エリプソメーター
XeF2エッチャー
光パラメトリック発振器
マルチチャンネル分光器
チタンサファイア_リングレーザ
赤外線カメラ
プラズマ_CVD
光造型
分子線エッチング装置
時間分解分光装置
分光用エッチング装置
液晶注入装置
メッキセット
光スペクトラムアナライザ
ハイポス（HIPOS）
エキシマランプ＆低真空ベーク炉
レーザードップラー振動計
インピーダンスアナライザ
紫外線露光装置
高周波プローブ
真空加速度試験器
ESSW2
ESSW3
カッティングプロッター
プローバ
パターンジェネレーター
縮小カメラ・現像
超高真空STM
Olympus_SPM
フォトンカウンティングカメラ・蛍光顕微鏡
ホットフィラメントCVD
投影露光装置
蛍光顕微鏡
レーザードップラー振動計2
マスクレス露光装置