3/4 01:01	利用可能ガス(Available gases)：<font color="ff0000">SF6</font>,CF4,CHF3,Ar,O2</br>He冷却可能(Available He cooling)</br>2011.03.03	M.Moriyama
3/8 17:55	O2クリーニング時のＲＦ出力は、<font color="00FF00">プロセス出力以上</font>で行って下さい。	M.Moriyama
1/20 22:20	サンプルホルダのチャック時は、ロードロックフォークを確実に引いて下さい。</br>When you chuck the sample holder, please pull the load-lock fork to left-side completely.	M.Moriyama
1/21 10:52	The machine is available. 	T. Naono
3/13 11:06	mechanical cleaning completed. if you find something strange, call the responsible person.	T.Naono